همکاری شرکت IBM،Applied و دانشکده فناوری‌نانوی آلبانی برای توسعه

شرکت IBM، Applied Materials و دانشکده فناوری‌نانوی دانشگاه آلبانی (CNSE)، با همکاری یکدیگر به دنبال توسعه فناوری مدل‌سازی فرایند جهت تولید تراشه‌های 22 نانومتر هستند.

امروزه نیمه‌هادی‌های بسیار پیشرفته دارای مدارهای 45 نانومتر و بزرگ‌تر هستند. تولید مدارهای 22 نانومتر چالش‌های زیادی به همراه دارد، زیرا روش‌های لیتوگرافی موجود برای ساخت الگوه‌های مدار، مبتنی بر سیلیکون هستند که دارای محدودیت‌های فیزیکی زیادی هستند. برای رفع این محدودیت‌ها شرکت IBM برنامه جدیدی با عنوان « مقیاس‌بندی محاسباتی» آغاز کرده است. فرایند‌های مبتنی بر محاسبه که توسط این شرکت توسعه یافته‌اند از تکنیک‌های ریاضی پیشرفته، ادوات نرم‌افزاری و سیستم‌های محاسباتی با عملکرد عالی استفاده کرده‌اند تا امکان ساخت نیمه‌هادی‌های قدرتمند، پیچیده و با کارایی بالای انرژی در مقیاس22 نانومتر و حتی کمتر فراهم شود.

با ترکیب فناوری فیلم نازک شرکت Applied Materials با دانش علوم پایه‌ی دانشکده علوم نانوی آلبانی و توانمندی‌های شرکت IBM، امکان توسعه مدل مورد نظر فراهم می‌شود.

این همکاری، باعث توسعه تحقیقات CNSE شده و بستر مناسبی برای تسریع توسعه تحقیق و توسعه‌های حوزه نانوالکترونیک فراهم می‌کند.

این پروژه مشترک در مجموعه آزمایشگاه‌های پیشرفته CNSE و با همکاری محققان و دانشمندان زبده این مرکز انجتام خواهد شد. همچنین مدل‌سازی و تعیین مشخصات فرایند نیز در شرکت IBM انجام خواهد شد.

تاریخ : یکشنبه 88/1/30 | 1:36 عصر | نویسنده : مهندس سجاد شفیعی | نظرات ()

.: Weblog Themes By BlackSkin :.